发明名称 光刻胶涂布系统
摘要 公开了一种光刻胶涂布系统,该系统包括控制器、供胶装置和喷嘴,所述控制器根据设置的喷洒参数向所述供胶装置发送控制信号,将光刻胶经所述喷嘴喷洒至晶片上;所述系统还包括喷洒检测装置,所述检测装置包括安置于所述喷嘴下方两侧的红外发射器和红外接收器,所述红外发射器接收到所述控制器发送的发射信号后发射红外线,所述红外接收器接收到所述控制器发送的接收信号后接收红外线,并将接收的红外线信号反馈给所述控制器,控制器根据所述接收的红外线信号的中断时间得到实际喷洒时间。本发明可以及时发现光刻胶喷洒不正常的现象,提高了批与批之间的重复性,减少了返工率和废品率,提高了生产效率。
申请公布号 CN101122746A 申请公布日期 2008.02.13
申请号 CN200610029910.8 申请日期 2006.08.10
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 黄良志;周瑶亮
分类号 G03F7/16(2006.01) 主分类号 G03F7/16(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 逯长明
主权项 1.一种光刻胶涂布系统,所述系统包括控制器、供胶装置和喷嘴,所述控制器根据设置的喷洒参数向所述供胶装置发送控制信号,将光刻胶经所述喷嘴喷洒至晶片上,其特征在于:所述系统还包括喷洒检测装置,所述检测装置包括安置于所述喷嘴下方两侧的红外发射器和红外接收器,所述红外发射器接收到所述控制器发送的发射信号后发射红外线,所述红外接收器接收到所述控制器发送的接收信号后接收红外线,并将接收的红外线信号反馈给所述控制器,控制器根据所述接收的红外线信号的中断时间得到实际喷洒时间。
地址 201203上海市浦东新区张江路18号