| 主权项 |
1.一种二维奈米矽酸盐材料之水热合成法,其至少 包括: 一「主原料混合」步骤,系将H2SiO3与该NaOH、Na2CO3 之水溶液混合; 一「密封进行水热反应」步骤,将上述混合水溶液 装入铁氟龙内管,再置入压力斧中并由外部加热, 以水热合成法于自生压力下反应; 一「过滤清洗」步骤,将上述水热合成法之半成品 以去离子水过滤、清洗; 一「乾燥」步骤,将上述过滤清洗过之半成品放入 烘箱中,以80℃乾燥,即可得Magadiite(马加地石)成品 。 2.如申请专利范围第1项所述之二维奈米矽酸盐材 料之水热合成法,其中该「主原料混合」步骤中之 H2SiO3系以一「初次原料混合」步骤,利用水玻璃加 入过量盐酸,促进其水解作用而制备成一中间产物 H4SiO4,再将该中间产物脱水而成。 3.如申请专利范围第2项所述之二维奈米矽酸盐材 料之水热合成法,其中该中间产物之脱水步骤系于 80℃环境中放置两天,使该H4SiO4在乾燥的空气中易 失水变成H2SiO3。 4.如申请专利范围第1或2或3项所述之二维奈米矽 酸盐材料之水热合成法,其中该「密封进行水热反 应」步骤中,该水热反应之加热温度系介于150~170 ℃。 5.如申请专利范围第4项所述之二维奈米矽酸盐材 料之水热合成法,其中该水热反应之反应时间则相 对为24~9小时。 图式简单说明: 第一图系本发明之制备流程图; 第二图系本发明于起始原料莫耳数比H2SiO3/(NaOH+Na2 CO3)=3.85且H2O/(NaOH+Na2CO3)=100,反应温度150℃,于各不 同反应时间之X-ray绕射图; 第三图系本发明于起始原料莫耳数比H2SiO3/(NaOH+Na2 CO3)=7、H2O/(NaOH+Na2CO3)=100,反应时间18小时,于各不同 反应温度之X-ray绕射图; 第四图系本发明于反应温度150℃,反应时间24小时, 莫耳数比H2O/(NaOH+Na2CO3)=100且H2SiO3/(NaOH+Na2CO3)于各 不同比値之X-ray绕射图; 第五图系本发明于起始原料莫耳数比H2SiO3/(NaOH+Na2 CO3)=7、H2O/(NaOH+Na2CO3)=100,反应温度170℃,于各不同 反应时间之X-ray绕射图; 第六图系本发明藉由扫描式电子显微镜观视 Magadiite(马加地石)于反应温度150℃,反应时间24小 时之影像分析图; 第七图系本发明藉由扫描式电子显微镜观视 Magadiite(马加地石)于反应温度170℃,反应时间9小时 之影像分析图。 |
