发明名称 无规则凹凸弧形曲面之光学膜
摘要 一种无规则凹凸弧形曲面之光学膜,系用以聚光以及均匀化所透射过之光线,光学膜之透明层系设置于透明基板之表面,透明层之表面形成具有多种曲率之弧形微结构无规则凹凸曲面,透明层中并分布有多个导电性佳的透光性分子,透光性分子于透明层中之重量百分比系介于0.01%至40%之间,所形成透明层之表面阻抗系不超过1014欧姆(Ω)/单位面积。
申请公布号 TWM327035 申请公布日期 2008.02.11
申请号 TW096211928 申请日期 2007.07.20
申请人 致和光电股份有限公司 发明人 陈智彦;陈柏村;萧希文
分类号 G02F1/133(2006.01) 主分类号 G02F1/133(2006.01)
代理机构 代理人 李长铭 台北市中山区南京东路2段53号9楼
主权项 1.一种无视则凹凸弧形曲面之光学膜,系用以聚光 以及均匀化所透射过之光线,该光学膜系包含: 一透明基板; 至少一透明层,系设置于该透明基板之表面,于该 透明层且相对于该透明基板之另一侧表面,系形成 具有复数种不同曲率之复数个无规则之弧形微结 构;以及 复数个透光性分子,该等透光性分子分布于该透明 层中,且该透光性分子之导电性大于该透明层,该 等透光性分子于该透明层之重量百分比系介于0.01 %至40%之间,其中该等透光性分子所在透明层之表 面阻抗系不超过1014欧姆()/单位面积。 2.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该透明 层系于接近摄氏23度以及接近60%相对湿度(RH)的环 境状况下具有该等透光性分子,会使该透明层之表 面阻抗介于109至1014欧姆()/单位面积之范围间。 3.如申请专利范围第1项所述之光学膜,系进一步具 有二透明层,分别设置于该透明基板之相对二侧表 面。 4.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该弧形 微结构曲率之绝对値范围系介于1至0.001(1/m)之 间。 5.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该等弧 形微结构中之每一个弧形微结构之投影方向面积 系小于mm2。 6.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该透光 性分子系为一导电高分子。 7.如申请专利范围第6项所述之光学膜,其中该导电 高分子系为一共轭导电高分子。 8.如申请专利范围第6项所述之光学膜,其中该导电 高分子系为一有机金属分子。 9.如申请专利范围第6项所述之光学膜,其中该导电 高分子系选自于由聚苯、聚塞吩(Polythiophene)、聚 乙炔(Polyacetylene)、聚咇咯(Polypyrrole)、聚苯胺( Polyaniline)所组合族群中之导电高分子。 10.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该透 明基板之材质系选自于由PET(聚对苯二甲酸乙二酯 )、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、Ms(甲基丙烯酸甲酯- 苯乙烯共聚物)、PS(聚苯乙烯)、PC(聚碳酸酯)、以 及PE(聚乙烯)所组成族群中之材质。 11.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该透 明层之材质系选自于由压克力树脂、环氧树脂、 PU、透明热硬化型树脂、以及紫外线硬化型树脂 所组成族群中之材质。 12.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中该透 明层中系进一步包含复数个散射粒子。 13.如申请专利范围第12项所述之光学膜,其中该散 射粒子之材质系选自于由萤光体、有机粒子以及 无机粒子所组成族群中之材质。 14.如申请专利范围第12项所述之光学膜,其中该散 射粒子为透光性分子。 15.如申请专利范围第1项所述之光学膜,其中将该 透明层设置于该透明基板表面之方法系选自于由 涂布、移印、热压、转印、喷涂、雾化、以及射 出所组成族群中之方法。 图式简单说明: 图一系习知技术光学膜之第一例示意图; 图二系习知技术光学膜之第二例示意图; 图三系本创作光学膜之示意图;以及 图四系本创作光学膜之另一例示意图。
地址 台北县五股乡五权三路33号
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