| 主权项 |
1.一种遮光模组,适用于一光学装置中,包括: 一托座; 一摆动件,枢接于该托座,该摆动件具有相对的一 第一端与一第二端,其中该第一端是依一从该摆动 件之枢接处朝该托座之顶部的方向延伸; 一遮光件,连接该摆动件之该第一端,该遮光件适 于切入一由该光学装置所产生之光束的传递路径; 一第一磁铁,配置于该摆动件,且位于该枢接处与 该第一端之间,其中该第一磁铁之两磁极的端面是 分别面向该托座之相对的一第一侧壁与一第二侧 壁; 一第二磁铁,配置于该摆动件,且邻近该第二端,其 中该第二磁铁的质心位于通过该第一磁铁之质心 及该枢接处中心的一轴线旁,且该第二磁铁之两磁 极的端面是分别面向该托座的顶部与底部;以及 一第一线圈,配置于该第一侧壁与该第二侧壁其中 之一上。 2.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,更包含一 控制单元,电性连接至该第一线圈,其中该控制单 元适于通入一电流至该第一线圈,以驱使该摆动件 摆动。 3.如申请专利范围第2项所述之遮光模组,其中该控 制单元包括: 一电路板;以及 一电流传输单元,连接该电路板与该第一线圈,而 该电路板适于透过该电流传输单元将该电流通入 第一线圈; 一磁力感测元件,配置于该电路板上,该磁力感测 元件适于感测该摆动件摆动时的磁力变化。 4.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,其中该第 二磁铁的质心位于该轴线与该第一侧壁之间,且该 第一磁铁面向该第一侧壁之端面的磁性与该第二 磁铁面向该顶部之端面的磁性相反。 5.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,更包括: 一轴承,配置于该摆动件的枢接处;以及 一固定轴,穿过该轴承,并固定于该托座。 6.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,更包括一 第二线圈,该第一线圈与该第二线圈其中之一是配 置在该第一侧壁上,另一是配置在该第二侧壁上, 且该第二线圈电性连接至该控制单元。 7.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,更包括一 第三磁铁,与该第一线圈分别配置于该第一侧壁与 该第二侧壁上。 8.如申请专利范围第1项所述之遮光模组,其中该遮 光件与该摆动件是一体成型的。 9.一种具有遮光模组之投影装置,包括: 一照明系统,适于提供一光束; 一投影镜头,配置于该光束的传递路径上; 一光阀,配置于该照明系统与该投影镜头之间,且 位于该光束的传递路径上; 一遮光模组,包括: 一托座,配置于该投影镜头上; 一摆动件,枢接于该托座,该摆动件具有相对的一 第一端与一第二端,其中该第一端是依一从该摆动 件之枢接处朝该托座之顶部的方向延伸; 一遮光件,连接该摆动件之该第一端,该遮光件适 于切入该光束的传递路径; 一第一磁铁,配置于该摆动件,且位于该枢接处与 该第一端之间,其中该第一磁铁之两磁极的端面是 分别面向该托座之相对的一第一侧壁与一第二侧 壁; 一第二磁铁,配置于该摆动件,且邻近该第二端,其 中该第二磁铁的质心位于通过该第一磁铁的质心 及该枢接处中心的一轴线旁,且该第二磁铁之两磁 极的端面是分别面向该托座的顶部与底部;以及 一第一线圈,配置于该第一侧壁与该第二侧壁其中 之一上。 10.如申请专利范围第9项所述之投影装置,更包含 一控制单元,电性连接至该第一线圈,其中该控制 单元适于通入一电流至该第一线圈,以驱使该摆动 件摆动。 11.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 控制单元包括: 一电路板;以及 一电流传输单元,连接于该电路板与该第一线圈之 间,而该电路板适于透过该电流传输单元将该电流 通入第一线圈; 一磁力感测元件,配置于该电路板上,该磁力感测 元件适于感测该摆动件摆动时的磁力变化。 12.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 第二磁铁的质心位于该轴线与该第一侧壁之间,且 该第一磁铁之面向该第一侧壁之端面的磁性与该 第二磁铁之面向该顶部之端面的磁性相反。 13.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 遮光模组更包括: 一轴承,配置于该摆动件的枢接处;以及 一固定轴,穿过该轴承,并固定于该托座。 14.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 遮光模组更包括一第二线圈,该第一线圈与该第二 线圈其中之一是配置在该第一侧壁上,另一是配置 在该第二侧壁上,且该第二线圈电性连接至该控制 单元。 15.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 遮光模组更包括一第三磁铁,与该第一线圈分别配 置于该第一侧壁与该第二侧壁上。 16.如申请专利范围第9项所述之投影装置,其中该 遮光件与该摆动件是一体成型的。 图式简单说明: 图1A与图1B 是习知遮光模组之仰、俯视角的立体 示意图。 图2 是本创作一实施例之投影装置的示意图。 图3A 是图2之遮光模组的立体示意图。 图3B 是图3A之遮光模组的分解爆炸图。 图4 是图3A之遮光模组的剖面图。 图5 是本创作另一实施例之遮光模组的剖面图。 |
