| 主权项 |
1.一种抗反射膜之制造方法,其包含有: 将一金属烷氧化合物或一金属无机盐类进行水解 以及缩合聚合反应以成为一胶体(colloid); 将该胶体与一有机溶液加入一反应器进行反应; 再加入一光起始剂于该反应器以生成一混合溶液; 以及 将该混合溶液利用旋转涂布至一透明基板上。 2.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该金 属烷氧化合物系选自Al(OC4H9)3、Si(OC2H5)4及Si(OCH3)4 之其中之一者。 3.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该金 属无机盐类系选自Al(NO3)3。 4.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中于将 一金属烷氧化合物或一金属无机盐类进行水解以 及缩合聚合反应以成为一胶体之步骤中,系加入一 催化剂、一溶剂与蒸馏水。 5.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中该催 化剂系包含盐酸。 6.如申请专利范围第4项所述之制造方法,其中该溶 剂系包含异丙醇。 7.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中于将 一金属烷氧化合物或一金属无机盐类进行水解以 及缩合聚合反应以成为一胶体之步骤中,将一金属 烷氧化合物、催化剂、溶剂与蒸馏水置于反应瓶 中,于60℃、反应5小时后停止搅拌,待其降温后置 入真空烘箱中进行减压浓缩,以去除过多之溶剂使 其固含量为4~5%之该胶体。 8.如申请专利范围第1项所述之制造方法,其中该光 起始剂之加入量系为1wt%。 9.一种抗反射膜之制造方法,其包含有: 将四乙氧基矽烷(TEOS)、催化剂、溶剂与蒸馏水(H2O )置于反应器内进行反应,再置入真空烘箱中进行 减压浓缩以生成一二氧化矽之溶胶凝胶溶液; 将该二氧化矽之溶胶-凝胶溶液与一有机溶液加入 一反应器进行反应; 再加入一光起始剂于该反应器以生成一混合溶液; 以及 将该混合溶液利用旋转涂布至一透明基板上。 10.一种抗反射膜之制造方法,其包含有:将一钛烷 氧化物与一螯合剂溶在一溶剂中以成一第一混合 液; 利用一触媒以及一蒸馏水,以混合成一第二混合液 ; 将该第二混合液滴入该第一混合液中,以控制钛之 烷氧化物的水解速度; 水解反应结束后进行减压浓缩,以形成一二氧化钛 之溶胶-凝胶溶液; 将该二氧化钛之溶胶-凝胶溶液与一有机溶液加入 一反应器进行反应; 再加入一光起始剂于该反应器以生成一混合溶液; 以及 将该混合溶液利用旋转涂布至一透明基板上。 11.如申请专利范围第10项所述之制造方法,其中该 触媒系包含盐酸。 12.如申请专利范围第10项所述之制造方法,其中该 溶剂系包含异丙醇。 13.一种抗反射膜之制造方法,其包含有: 将单体甲基丙烯酸甲酯(Methyl methacrylate,MMA)、甲基 丙烯酸-2-羟基乙酯(2-Hydroxyethyl methacrylate,2-HEMA)、 二甲基丙烯酸四乙二醇酯(Tri(etbylene glycol)dimeth- acrylate,TEGDMA)置于一第一反应器中反应生成一有机 溶液; 将一金属烷氧化合物进行水解以及缩合聚合反应 以成为一胶体(colloid); 将该胶体与该有机溶液加入一第二反应器进行反 应; 再加入一光起始剂于该反应器以生成一混合溶液; 以及 将该混合溶液利用旋转涂布至一透明基板上。 14.如申请专利范围第13项所述之抗反射膜之制造 方法,其中该二甲基丙烯酸四乙二醇系可促使该胶 体形成之一薄膜提升硬度。 图式简单说明: 第一图系习知真空蒸镀装置之一较佳实施例之示 意图; 第二图系习知真空蒸镀法之流程图; 第三图系本发明之一较佳实施例之流程图; 第四A图系本发明之一较佳实施例之注射材料的示 意图; 第四B图系本发明之一较佳实施例之基板旋转的示 意图; 第四C图系本发明之一较佳实施例之缩合薄膜的示 意图; 第四D图系本发明之一较佳实施例之挥发乾燥的示 意图; 第五图系本发明之一较佳实施例之重量比相对折 射率之示意图; 第六图系本发明之一较佳实施例之重量比相对穿 透率之示意图; 第七图系本发明之一较佳实施例之温度相对重量 比之示意图; 第八图系本发明之一较佳实施例之波长相对穿透 度之示意图; 第九图系本发明之另一较佳实施例之流程图; 第十图系本发明之再一较佳实施例之流程图;以及 第十一图系本发明之又一较佳实施例之流程图。 |
