发明名称 气体阻障性积层体之制造方法
摘要 本发明系揭示一种气体阻障性积层体之制造方法,其包括:制作一积层体,该积层体包含塑胶基材、由含有聚乙烯醇及乙烯-顺丁烯二酸共聚合体之气体阻障层形成用涂料形成之气体阻障层、及含有2价以上金属之金属化合物之聚合物层,其中上述聚合物层系积层在上述气体阻障层之至少一面上;以及将得到之积层体于水存在下进行加热处理。再者,本发明揭示一种气体阻障性积层体之制造方法,其包括将含有聚乙烯醇及乙烯-顺丁烯二酸共聚合体之气体阻障层形成用涂料直接涂布在塑胶基材上,或者以经由底涂层(undercoat)之方式涂布在塑胶基材上,并进行加热处理;以及将得到之积层体于含有2价以上金属之金属化合物之水存在下,进行加热处理。
申请公布号 TWI293043 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW093109702 申请日期 2004.04.08
申请人 东洋油墨制造股份有限公司 发明人 鸭下深雪
分类号 B32B27/28(2006.01) 主分类号 B32B27/28(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种气体阻障性积层体之制造方法,包括制作一 积层体,该积层体包含塑胶基材、由含有聚乙烯醇 及乙烯-顺丁烯二酸共聚合体之气体阻障层形成用 涂料形成之气体阻障层、及含有2价以上金属之金 属化合物之聚合物层,其中上述聚合物层系积层在 上述气体阻障层之至少一面上;以及将得到之积层 体于水存在下进行加热处理。 2.如申请专利范围第1项之气体阻障性积层体之制 造方法,其中,该聚合物层为位于塑胶基材与气体 阻障层间之底涂层。 3.一种气体阻障性积层体之制造方法,包括将含有 聚乙烯醇及乙烯-顺丁烯二酸共聚合体之气体阻障 层形成用涂料直接涂布在塑胶基材上,或者以经由 底涂层(undercoat)之方式涂布在塑胶基材上,并进行 加热处理;以及将得到之积层体于含有2价以上金 属之金属化合物之水存在下,进行加热处理。 4.如申请专利范围第2或3项之气体阻障性积层体之 制造方法,其中,该底涂层系由玻璃转移温度0℃以 上之聚酯多元醇及聚异氰酸酯所形成。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之气体阻障性 积层体之制造方法,其中,该金属化合物系与羟基 或羧基反应而得到者。 6.如申请专利范围第1至3项中任一项之气体阻障性 积层体之制造方法,其中,该金属化合物含有从2价 以上金属之氢氧化物、碳酸盐、醋酸盐及磷酸盐 组成之群中选出一种以上。 7.如申请专利范围第6项之气体阻障性积层体之制 造方法,其中,该金属化合物含有2价以上金属之氢 氧化物及碳酸盐中之一种以上。 8.如申请专利范围第1至3项中任一项之气体阻障性 积层体之制造方法,其中,该2价以上金属为Mg及/或 Ca。 9.如申请专利范围第1至3项中任一项之气体阻障性 积层体之制造方法,其中,该气体阻障层形成用涂 料中之聚乙烯醇与乙烯-顺丁烯二酸共聚合体之重 量比为90:10至10:90。 10.如申请专利范围第1至3项中任一项之气体阻障 性积层体之制造方法,其中,该于水存在下之加热 处理系在90℃以上进行。 图式简单说明: 第1图系以模式方式表示气体阻障性积层体之一实 施形态之剖视图。 第2图系以模式方式表示气体阻障性积层体之另一 实施形态之剖视图。 第3图系以模式方式表示气体阻障性积层体之又一 实施形态之剖视图。 第4图系以模式方式表示气体阻障性积层体之再一 实施形态之剖视图。
地址 日本
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