发明名称 形成含矽膜用组成物、含矽膜、形成含矽膜之基板及使用其之图型形成方法
摘要 本发明系一种热硬化性含矽膜形成用组成物,其特征系含有:(A)经由选自无机酸及磺酸衍生物之1种以上的化合物作为酸触媒使用,由将水解性矽化合物进行水解缩合所得之含矽化合物的反应混合物中,实质上除去上述酸触媒的步骤,所得之含矽化合物,(B)下述一般式(1)或(2)表示之化合物、 LaHbX (1)(式中,L系Li、Na、K、Kb或Cs,X为OH或碳数1~30之1价或2价以上的有机酸基,a为1以上的整数,b系0或1以上之整数,a+b为羟基或有机酸基的价数) MA (2)(式中,M系、碘或铵,A为非亲核性对向离子)(C)碳数1~30之1价或2价以上的有机酸,(D)有机溶剂。藉由利用使用本发明之热硬化性含矽膜形成用组成物形成的含矽中间膜,可形成其上形成之光阻膜之良好的图型。
申请公布号 TW200806746 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW096112322 申请日期 2007.04.09
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 荻原勤;上田贵史;岩渊元亮
分类号 C08L83/04(2006.01);C08G77/08(2006.01);H01L21/312(2006.01) 主分类号 C08L83/04(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本