发明名称 形成半导体于绝缘结构上之方法
摘要 本发明揭示出一种黏接半导体薄膜于长方形基板(22)上。该方法有可能由圆形前身半导体晶片外延出长方形半导体薄膜,因而提供有效地以半导体薄膜覆盖基板。该方法包含下列步骤:藉由晶片离子植入在前身晶片(10)中产生受损区域(12),去除部份晶片(16)以形成突出部份(18),黏接晶片(10)突出部份至基板(22),以及外延黏接之突出部份。
申请公布号 TW200807618 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW096117001 申请日期 2007.05.11
申请人 康宁公司 发明人 马克史考克
分类号 H01L21/76(2006.01);H01L21/84(2006.01) 主分类号 H01L21/76(2006.01)
代理机构 代理人 吴洛杰
主权项
地址 美国