防护膜结构

摘要

本发明提供一种防护膜结构，其包括一底膜及一抵抗膜，所述底膜用于形成于一待保护基底表面，所述抵抗膜形成于该底膜表面。所述底膜之材料包括非晶体氮化硼或非晶体碳化硼。所述抵抗膜包括依次形成于底膜表面之一粘结层，一中间层及一披覆层。本发明之防护膜结构中，底膜材料选用非晶体氮化硼或非晶体碳化硼，其摩擦系数较小，用于电子产品之外壳时触感较好。另外，形成于底膜表面之抵抗膜可有效抵制外部环境之作用而保护底膜，从而进一步保护电子产品之外壳。