发明名称 |
回流法、图案形成方法及液晶显示装置用薄膜电晶体元件之制造方法 |
摘要 |
〔课题〕提供一种抗蚀剂的回流处理中,使已软化的抗蚀剂快速地流动,并且高精度地控制其流动方向及流动面积,因而可利用于图案形成和液晶显示装置用薄膜电晶体元件之制造的技术。〔解决手段〕藉由界面活性剂对抗蚀剂103至标靶区域S1的下层膜101之流动促进区域104,施行表面处理,让抗蚀剂易于流动,来改善其停滞性。使抗蚀剂103软化的情况下,已软化的抗蚀剂103行进到流动促进区域104这边,诱导到标靶区域S2。朝向未施行表面处理的禁止区域S2的抗蚀剂103的行进,是朝向标靶区域S1的抗蚀剂103愈多,相反地愈受到其反作用所抑制。 |
申请公布号 |
TW200807499 |
申请公布日期 |
2008.02.01 |
申请号 |
TW096111313 |
申请日期 |
2007.03.30 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
麻生丰;白石雅敏 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L29/786(2006.01);G03F7/40(2006.01);G02F1/1368(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |