| 摘要 |
本发明揭示一种具优越直线性之极小间距的铜配线聚醯亚胺膜。铜配线聚醯亚胺膜系使用附载体之铜箔叠层聚醯亚胺膜，利用半加成法，含有20～45μm间距铜配线部分之铜配线聚醯亚胺膜的制造方法，其具有：（a）制备铜箔叠层膜的步骤，其系于聚醯亚胺膜表面，膜侧的表面粗糙度Rz为1.0μm以下、具有0.5～2μm之范围厚度的铜箔；（b）于铜箔顶面形成可进行20～45μm间距之配线图案形成的电镀光阻图案层的步骤；（c）从光阻起，露出之铜箔部分进行镀铜的步骤；（d）去除电镀光阻的步骤；及（e）将露出于去除电镀光阻后之部分上的铜箔予以去除，使聚醯亚胺膜露出的步骤。 |
