发明名称 |
氮化镓晶体之成长方法 |
摘要 |
本氮化镓晶体之成长方法系于基底基板(U)上局部地形成阻碍氮化镓晶体之磊晶成长的遮罩(M),向形成有遮罩(M)之基底基板(U)上一边掺杂碳一边使氮化镓晶体磊晶成长。藉此,于磊晶成长过程中,第一晶体区域自遮罩(M)之周边向内侧成长,且相对于成长在基底基板(U)上并未形成有上述遮罩(M)之区域内的第二晶体区域而言该第一晶体区域系c轴方向反转,故于第一及第二区域之边界产生稳定之晶体粒界,从而有效地降低晶体之位错密度。 |
申请公布号 |
TW200807509 |
申请公布日期 |
2008.02.01 |
申请号 |
TW096118098 |
申请日期 |
2007.05.22 |
申请人 |
住友电气工业股份有限公司 |
发明人 |
冈久拓司;元木健作;上松康二;中成二;弘田龙;井尻英幸;笠井仁;藤田俊介;佐藤史隆;松冈彻 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01);H01L33/00(2006.01);C30B29/38(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |