发明名称 结合IC整合基板与载板之结构及其制造方法与电子装置之制造方法STRUCTURE COMBINED WITH AN IC INTEGRATED SUBSTRATE AND A CARRIER , METHOD OF MANUFACTURING THE STRUCTURE, AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRICAL DEVICE
摘要 本发明提供一种结合IC整合基板与载板之结构,其包含:一载板;及一IC整合基板,形成于载板上,且IC整合基板具有一与载板贴合之第一介电层,其中选择该载板与该第一介电层之材料,俾藉由该载板与该第一介电层之间的附着力,使该IC整合基板不会在制程中自该载板剥离,且在最后切割处理时,使切割后之IC整合基板与该载板自然分离。。本发明亦提供上述结构之制造方法、及电子装置之制造方法。
申请公布号 TW200807525 申请公布日期 2008.02.01
申请号 TW095127470 申请日期 2006.07.27
申请人 巨擘科技股份有限公司 发明人 杨之光
分类号 H01L21/304(2006.01);H01L23/48(2006.01);H01L27/12(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 刘育志
主权项
地址 新竹市科学园区研新四路6号