发明名称 |
结合IC整合基板与载板之结构及其制造方法与电子装置之制造方法STRUCTURE COMBINED WITH AN IC INTEGRATED SUBSTRATE AND A CARRIER , METHOD OF MANUFACTURING THE STRUCTURE, AND METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRICAL DEVICE |
摘要 |
本发明提供一种结合IC整合基板与载板之结构,其包含:一载板;及一IC整合基板,形成于载板上,且IC整合基板具有一与载板贴合之第一介电层,其中选择该载板与该第一介电层之材料,俾藉由该载板与该第一介电层之间的附着力,使该IC整合基板不会在制程中自该载板剥离,且在最后切割处理时,使切割后之IC整合基板与该载板自然分离。。本发明亦提供上述结构之制造方法、及电子装置之制造方法。 |
申请公布号 |
TW200807525 |
申请公布日期 |
2008.02.01 |
申请号 |
TW095127470 |
申请日期 |
2006.07.27 |
申请人 |
巨擘科技股份有限公司 |
发明人 |
杨之光 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01);H01L23/48(2006.01);H01L27/12(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
刘育志 |
主权项 |
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地址 |
新竹市科学园区研新四路6号 |