用以决定应用于微影制程之光源品质的方法

摘要

本发明提供一种用以决定应用于微影制程之光源品质的方法。将一影像感测器阵列曝光于一光源之光。收集对应于一瞳孔图像之复数位置的位址及个别的强度，其系表示该光源之光在该影像感测器阵列上的强度。依据收集之该位址及强度，定义该瞳孔图像之内曲线及外曲线之至少一者。若该位址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线中至少一者相关，将该光源用于一微影制程。