| 摘要 |
本发明系关于一种根据一形成于一第一抗蚀剂层10’上之图案化第二抗蚀剂层14’中所形成之一图案使该第一抗蚀剂层10’图案化的方法。首先至少部分热解一第一抗蚀剂材料10以形成一硬式遮罩抗蚀剂层10’。接着藉由一含矽基团（诸如藉由矽烷化）大体官能化该第一抗蚀剂层10’之一表面，以界定一含矽表面层12。接着（例如）根据形成于该第二抗蚀剂层中之该图案而乾式显影该第一抗蚀剂层10’（包括矽烷化表面层12）以在该硬式遮罩层10’中形成一相应图案。该图案化的第二抗蚀剂层14’可为例如约80nm至约100nm厚。 |
