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经营范围
发明名称
Hybrides Belichtungssystem für die Photolithographie
摘要
申请公布号
DE69637282(T2)
申请公布日期
2008.01.31
申请号
DE19966037282T
申请日期
1996.05.15
申请人
ASML HOLDING, N.V.
发明人
STANTON, STUART;OSKOTSKY, MARK;GALLATIN, GREGG;ZERNIKE, FRITZ
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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