发明名称 |
Verfahren zur Qualitätsbestimmung einer Lichtquelle |
摘要 |
Es werden Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle angegeben, die in einen photolithographischen Prozess verwendet wird. Ein Bildsensor-Array wird mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet (300). Es werden Adressen und entsprechende Intensitäten gesammelt, die einer Vielzahl von Stellen auf der Pupillenabbildung (400) entsprechen, die die Intensität des Lichts auf dem Bildsensor-Array repräsentiert. Es wird wenigsten eine innere Kurve (C1) oder eine äußere Kurve (C2) der Pupillenabbildung (400), basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten, gebildet. Die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess verwendet, wenn die Adressen ein vorherbestimmtes Muster in Bezug wenigstens auf die innere Kurve (C1) oder die äußere Kurve (C2) aufweisen.
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申请公布号 |
DE102007020033(A1) |
申请公布日期 |
2008.01.31 |
申请号 |
DE200710020033 |
申请日期 |
2007.04.27 |
申请人 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MFG. CO. LTD. |
发明人 |
CHEN, NAN-JUNG;PENG, JUI-CHUNG;HUNG, KEVIN;YANG, AN-KUO |
分类号 |
G01J1/42;G03F7/20;H01L21/66;H01L31/18 |
主分类号 |
G01J1/42 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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