| 摘要 |
<p>Ein Beleuchtungssystem (5) für die Mikro-Lithographie hat eine Lichtverteilungseinrichtung (9, 10) zur Erzeugung einer vorgegebenen zweidimensionalen Intensitätsverteilung sowie ein optisches Rastermodul (12). Letzteres hat eine erste Rasteranordnung mit ersten, rechteckigen Rasterelementen (20), die gerastert angeordnete sekundäre Lichtquellen erzeugt. Das Rastermodul (12) hat weiterhin eine im Beleuchtungs-Lichtweg nach der ersten Rasteranordnung (19) angeordnete zweite Rasteranordnung (34). Eine Übertragungsoptik (13, 15, 16) dient zur überlagernden Übertragung von Beleuchtungslicht (8) der sekundären Lichtquellen (23) in ein Beleuchtungsfeld (3). Mindestens eine weitere optische Bildfeldformungs- Rastereinrichtung mit rechteckigen Bildfeldformungs-Rasterelementen beeinflusst das Beleuchtungslicht (8) zur Erzeugung von gebogenen sekundären Lichtquellen (33). Es resultiert ein Beleuchtungssystem, bei dem ein gebogenes Beleuchtungsfeld mit optischen Komponenten erzeugt werden kann, deren Herstellungsaufwand vertretbar ist. Das Beleuchtungssystem ist Teil einer Projektionsbelichtungsanlage (1), mit der mikrostrukturierte Bauelemente hergestellt werden können.</p> |
