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Die Erfindung betrifft einen Waferreiniger (10), der ohne bewegliche Teile zum Reinigen der Oberfläche eines Wafers (70) auskommt. Hierzu sind oberhalb einer Aufnahmeeinrichtung (60) mehrere hintereinander angeordnete Druckluftröhren (20 bis 36) angesetzt, die nacheinander derart mit Druckluft beaufschlagt werden, dass ein Druckluftvorhang (40) erzeugt wird, der über die Oberfläche des Wafers (70) wandert und somit Staub- und/oder Schmutzpartikel zu einer Absaugeinrichtung (90) schiebt, die die Staub- und/oder Schmutzpartikel absaugt.
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