| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。另外，以与接口区相邻的方式配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之前的基板(W)进行清洗以及干燥处理，在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之后的基板(W)进行清洗以及干燥处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101114577A | 申请公布日期 | 2008.01.30 |
| 申请号 | CN200710137095.1 | 申请日期 | 2007.07.24 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 金山幸司;茂森和士;金冈雅;宫城聪;安田周一 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/67(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐恕 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，与曝光装置相邻配置，其特征在于，包括：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其用于在所述处理部和所述曝光装置之间交接基板，所述处理部以及所述交接部中的至少一个包括对基板进行干燥处理的干燥处理单元，所述干燥处理单元包括：基板保持装置，其将基板保持为近似水平；旋转驱动装置，其使由所述基板保持装置所保持的基板围绕与该基板垂直的轴进行旋转；液层形成部，其在所述基板保持装置所保持的基板上形成液层；气体喷出部，其在通过所述旋转驱动装置而使基板旋转的状态下，向通过所述液层形成部而形成于基板上的液层的中心部喷出气体。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||