| 发明名称 | 用于使静电潜像显影的调色剂及其制造方法、静电潜像显影剂、墨盒以及成像装置 | ||
| 摘要 | 一种用于使静电潜像显影的调色剂，该调色剂包括结晶性聚酯树脂和隔离剂，其中结晶性聚酯树脂与隔离剂接触的结构存在于钌染色的调色剂截面中，如果这些结构的截面积表示为A，隔离剂单独部分截面积表示为B，结晶性聚酯树脂的单独部分截面积表示为C，则40≤100×A/(A+B+C)≤70，10≤100×B/(A+B+C)≤30，20≤100×C/(A+B+C)≤30。 | ||
| 申请公布号 | CN101114136A | 申请公布日期 | 2008.01.30 |
| 申请号 | CN200710103327.1 | 申请日期 | 2007.05.18 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 石山孝雄;犬饲崇志;瀨户秋次;中岛与人 |
| 分类号 | G03G9/08(2006.01);G03G9/10(2006.01);G03G15/08(2006.01);G03G21/18(2006.01) | 主分类号 | G03G9/08(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 程大军 |
| 主权项 | 1.一种用于使静电潜像显影的调色剂，该调色剂包括结晶性聚酯树脂和隔离剂，其中所述结晶性聚酯树脂与所述隔离剂接触的结构存在于钌染色的调色剂截面中，如果所述结构的截面积表示为A，隔离剂单独部分截面积表示为B，结晶性聚酯树脂单独部分截面积表示为C，则40≤100×A/(A+B+C)≤70，10≤100×B/(A+B+C)≤30，20≤100×C/(A+B+C)≤30。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||