| 发明名称 | 纳米尺度器件的制造的干涉分析 | ||
| 摘要 | 本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。 | ||
| 申请公布号 | CN101115971A | 申请公布日期 | 2008.01.30 |
| 申请号 | CN200580040751.5 | 申请日期 | 2005.11.21 |
| 申请人 | 分子制模股份有限公司 | 发明人 | P·K·林玛卡亚拉;T·H·拉弗蒂;A·阿格里;B－J·崔;P·D·苏马克;D·A·巴布斯;V·N·柴斯盖特 |
| 分类号 | G01B11/26(2006.01) | 主分类号 | G01B11/26(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陈炜 |
| 主权项 | 1.一种用于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统，所述系统包括：用于在多个点处感测所述两坐标系之间的相对对准并确定它们之间的相对空间参数的分析系统，且所述相对空间参数包括相对面积和相对形状。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||