发明名称 防止或减轻工业方法中铝硅酸盐污垢的方法
摘要 提供具有以下特征的物质和方法:使用具有至少0.5摩尔%的含-Si(OR″)<SUB>3</SUB>(其中R″是H、烷基、Na、K或NH<SUB>4</SUB>)的侧链基或端基的聚合物来控制具有碱性工艺流的工业方法(例如纸浆制造工艺流)中的铝硅酸盐污垢。当本发明的物质加入到这些碱性工艺流中时,它们能够减少,甚至完全防止铝硅酸盐污垢在设备表面(例如蒸发器壁和加热表面)上形成。本发明的物质在经济实用的处理浓度下非常有效。
申请公布号 CN101115776A 申请公布日期 2008.01.30
申请号 CN200680004110.9 申请日期 2006.02.01
申请人 CYTEC技术有限公司 发明人 M·L·泰伊尔;H·T·陈;D·P·斯皮策;H·I·海特纳
分类号 C08F8/00(2006.01);C08F230/08(2006.01) 主分类号 C08F8/00(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 项丹
主权项 1.一种用于减少碱工业过程中铝硅酸盐污垢的组合物,该组合物包含符合以下通式的聚合物:<img file="A2006800041100002C1.GIF" wi="1787" he="170" />式中,w=1-99.9%,x=0.1-50%,y=0-50%,z=0-50%;Q=C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基、芳基、酰胺、丙烯酸酯、醚、COXR,其中X=O或NH,R=H、Na、K、NH<sub>4</sub>、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基或芳基,或者任何其它取代基;X=NH、NP,其中P=C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基或芳基,或者O;R′=C<sub>1-10</sub>烷基或芳基;V″=H、C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基、芳基、Na、K或NH<sub>4</sub>,或者形成酸酐环;R″=H、C<sub>1</sub>-C<sub>3</sub>烷基、芳基、Na、K或NH<sub>4</sub>;D=NR1<sub>2</sub>或OR1,其中R1=H、C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>烷基、C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>烯基或芳基,条件是不要求所有R、R″、V″和R1基团都必须相同。
地址 美国特拉华州