| 发明名称 | 多色调光掩模及其制法和基于此的薄膜晶体管基底的制法 | ||
| 摘要 | 一种多色调光掩模包括基底、阻光图案、第一半透射图案和第二半透射图案。阻光图案在基底上形成。第一半透射图案在基底上形成。第二半透射图案与第一半透射图案部分叠置。该多色调光掩模具有至少五种不同的透光率，这些透光率对应于在基底上划分的多个区域。 | ||
| 申请公布号 | CN101114119A | 申请公布日期 | 2008.01.30 |
| 申请号 | CN200710090492.8 | 申请日期 | 2007.04.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 蔡钟哲;尹铢浣;金时烈;尹珠爱 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01);G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郭鸿禧;刘奕晴 |
| 主权项 | 1.一种多色调光掩模，包括：基底；阻光图案，在所述基底上形成；第一半透射图案，具有为第一值的透光率并在所述基底上形成；第二半透射图案，具有为不同的第二值的透光率，所述第二半透射图案具有与所述第一半透射图案叠置的第一部分和在所述基底上形成的第二部分。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市灵通区梅滩3洞416 | ||