发明名称 在磁介质上形成磁图案的方法和系统
摘要 由一种处理过程以高分辨率和图案清晰度提供图案化磁介质,该处理过程包括步骤:将第一均匀磁场(7)施加到磁层(4),该磁场具有预排列磁层上磁颗粒的第一方向和强度;施加第二个均匀磁场,该磁场的第二方向与第一磁场相反,其磁场强度小于第一磁场,只有当其上的温度等于或大于居里温度Tc时,该磁场强度足以改变磁颗粒的排列;当施加第二磁场时,将磁层上选择表面区域(4S)图案的温度有选择地至少升高到Tc达一段间隔时间,由此,有选择地改变选择性加热表面区的磁颗粒的排列;在完成所选的重新排列后,中断施加第二磁场;以及将选择的加热表面区域冷却到低于Tc的温度,由此,在磁层中保留磁图案。
申请公布号 CN100365707C 申请公布日期 2008.01.30
申请号 CN00815591.7 申请日期 2000.11.09
申请人 希捷科技有限公司 发明人 王理平
分类号 G11B5/84(2006.01);G11B5/82(2006.01);G11B5/00(2006.01) 主分类号 G11B5/84(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 李玲
主权项 1.一种在磁数据/信息存储和恢复介质上形成磁图案的方法,其特征在于,该方法包括步骤:(a)提供一种磁介质,该磁介质包括有一个表面的磁记录层,所述磁记录层包括一种居里温度(Tc)远高于室温的磁性材料;(b)将具有第一方向和一定强度的第一均匀磁场施加到所述磁层,所述均匀磁场的强度足够充分均匀化磁层上的磁状态;(c)将第二个均匀磁场施加于所述磁层,该磁场的第二方向与所述第一磁场的方向相反,其磁场强度低于,但接近于在磁层温度接近于Tc时出现磁层的磁化降低的磁场强度;(d)将所述磁层上所选的至少一部分表面区的温度至少升高到Tc达一段所需间隔,同时将所述第二磁场施加到所述磁层时,由此,有选择地改变所述磁层上所选的至少一部分表面的磁化状态;(e)在完成步骤(d)后,中断施加于所述磁层的所述第二磁场;(f)将所选的至少一部分磁层冷却到低于Tc的温度。
地址 美国加利福尼亚州
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