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发明名称 METHOD FOR DEPOSITING SILICON NITRIDE FILMS AND SILICON OXYNITRIDE FILMS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要
申请公布号 EP1458903(B1) 申请公布日期 2008.01.30
申请号 EP20020803815 申请日期 2002.11.27
申请人 L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE 发明人 DUSSARRAT, CHRISTIAN;GIRARD, JEAN-MARC
分类号 C23C16/30;C23C16/34;C23C16/455;H01L21/318 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
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