发明名称 Leistungsverwaltungsvorrichtung
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Leistungsverwaltungsvorrichtung zum Steuern einer ersten Versorgungsspannung, einer zweiten Versorgungsspannung und einer Substratspannung eines digitalen Schaltkreises. Die Leistungsverwaltungsvorrichtung umfasst eine Spannungserzeugungsvorrichtung zum Erzeugen einer ersten Referenzspannung und einer zweiten Referenzspannung und eine Spannungsumschaltvorrichtung, die mit der Spannungserzeugungsvorrichtung verbunden ist, um die erste Versorgungsspannung, die zweite Versorgungsspannung und die Substratspannung einzustellen. Wenn der digitale Schaltkreis in einem ersten Betriebsmodus arbeitet, gibt die Spannungsumschaltvorrichtung die zweite Referenzspannung an die erste Versorgungsspannung und die Substratspannung aus; und wenn der digitale Schaltkreis in einem zweiten Betriebsmodus arbeitet, gibt die Spannungsumschaltvorrichtung die erste Referenzspannung an die erste Versorgungsspannung aus und gibt die zweite Referenzspannung an die zweite Versorgungsspannung aus.</p>
申请公布号 DE102007021975(A1) 申请公布日期 2008.01.24
申请号 DE20071021975 申请日期 2007.05.10
申请人 REALTEK SEMICONDUCTOR CORP. 发明人 LEE, CHAO-CHENG;TZENG, TZU-CHIEN
分类号 H03K19/094;H03K19/0948 主分类号 H03K19/094
代理机构 代理人
主权项
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