基板处理装置

摘要

形成单一正向路径(第一基板输送路径)，用于在正向输送基板以将基板输送到曝光装置上。形成分开的基板输送路径(第二基板输送路径)，专用于后曝光烘烤(PEB)。沿着每条路径进行基板输送，而与沿着另一条的基板输送无关。将第四主输送机构插入输送点之间作为预定的基板输送机构，该输送点由用作临时存储模组的临时存储基板的缓冲器和对应预定处理单元的后曝光烘烤(PEB)单元组成。这种布置形成用于在缓冲器和PEB单元之间输送基板的路径，以使基板的PEB处理顺利进行。同样，顺利地将基板输送到缓冲器。

主权项

1.一种基板处理装置，具有用于处理基板的处理单元和基板输送机构，该基板输送机构用于将基板输送到处理单元和自处理单元输送基板，所述的装置包括：第一基板输送路径，用于在所述处理单元之间输送基板，所述第一基板输送路径包括多个基板输送机构，该多个基板输送机构布置有在介于其之间的用于输送基板的输送点；第二基板输送路径，用于在临时存储基板的临时存储模组和预定的一个所述处理单元之间输送基板，所述的临时存储模组和所述预定的一个所述处理单元分别设置在输送点处，所述输送点具有介于其之间的预定的基板输送机构，设置所述的第一基板输送路径，以在所述处理单元和曝光装置之间输送基板，该曝光装置用作与所述基板处理装置并置的外部器件，设置所述的第一基板输送路径以用作单一正向路径，用于沿从所述处理单元到所述曝光装置的正向输送基板以将基板传递给所述曝光装置，其中还包括单一反向路径，用于在接收来自所述曝光装置的基板后沿从所述曝光装置到所述处理单元的反向输送基板，所述的第二基板输送路径被避免与所述的单一反向路径重叠。