| 发明名称 | 成膜用精密掩模及其制造方法、电致发光装置及制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜用精密掩模。具有以规定的间隔平行配置，形成多个第一开口部(2)的第一梁(3)；在第一梁(3)之上，与该第一梁(3)交叉配置形成多个第二开口部(4)的1或多个第二梁(5)；第一梁(3)和第二梁(5)在交叉部分连结。由此可在有机EL显示装置的发光层等的蒸镀时，与玻璃基板的对位容易，并且能形成强度充分并且正确的蒸镀图形的成膜用精密掩模。另外，本发明还提供简单并且可靠地制造这样的成膜用精密掩模的方法、有机EL显示装置及其制造方法、具有有机EL显示装置的电子仪器。 | ||
| 申请公布号 | CN100364140C | 申请公布日期 | 2008.01.23 |
| 申请号 | CN200410001843.X | 申请日期 | 2004.01.14 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 四谷真一;桑原贵之 |
| 分类号 | H01L51/56(2006.01);H05B33/10(2006.01);H01L21/28(2006.01) | 主分类号 | H01L51/56(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种成膜用精密掩模，其特征在于：包括：以规定的间隔平行配置，形成多个第1开口部的第1梁；在所述第1梁上，与该第1梁交叉配置，形成多个第2开口部的1个或多个第2梁；所述第1梁和第2梁在交叉部分连结。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||