发明名称 蚀刻机台电极结构及其制作方法
摘要 本发明提供一种蚀刻机台电极结构及其制作方法,其中该蚀刻机台电极结构包含有电极基板具有多个气孔,以及多个陶瓷通气环分别安装于气孔之中。电极基板之上,还可形成表面处理层、陶瓷层以及金属钨层,以保护此电极基板。本发明的蚀刻机台电极结构,可以利用陶瓷通气环,有效地改善蚀刻等离子体破坏下电极气孔的情况,以使电极及显示器面板报废的情况有效地被降低。
申请公布号 CN101111121A 申请公布日期 2008.01.23
申请号 CN200710140022.8 申请日期 2007.08.07
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 游庭权;江泓庆;洪国展
分类号 H05H1/34(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/311(2006.01);H01L21/3213(2006.01);H01J37/04(2006.01);G02F1/1333(2006.01) 主分类号 H05H1/34(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 陈晨
主权项 1.一种蚀刻机台电极结构,至少包含:电极基板,具有多个气孔;以及多个陶瓷通气环,安装于所述气孔之中。
地址 中国台湾新竹市