发明名称 自动应用光学近似校正的方法,产生一用于自动应用光学近似校正之规则集的方法与电脑可读取媒体,及元件制作方法
摘要 本发明揭示一种将光学近似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网(reticle)设计之方法。该方法包含如下步骤:(1)产生用于在一给定照明设定值下将散射棒辅助部件应用于该复数个部件之第一组规则;(2)产生一用于在该给定照明设定值下将偏置应用于该复数个部件之第二组规则;(3)形成一包含该第一组规则及该第二组规则之查询表;及(4)使用包含于该查询表内的该第一组规则及第二组规则分析该复数个部件中每一部件以决定该第一组规则或该第二组规则是否适用于一给定部件。若该第一组规则或该第二组规则适用于该给定部件,则根据该适用规则修改该给定部件。
申请公布号 TWI292850 申请公布日期 2008.01.21
申请号 TW092120399 申请日期 2003.07.25
申请人 ASML遮盖器具公司 发明人 鲁龙 席;前芳 陈
分类号 G03B19/20(2006.01);G03F1/08(2006.01);G03F1/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03B19/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种产生一用于将光学近似校正技术自动应用 于一包含复数个部件之光网设计之规则集之方法, 该方法包含如下步骤: 产生一用于在一给定照明设定値下将散射棒辅助 部件应用于该复数个部件之第一组规则; 产生一用于在该给定照明设定値下将偏置应用于 该复数个部件之第二组规则;及 形成一包含该第一组规则及该第二组规则之查询 表。 2.根据申请专利范围第1项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其中该产生该第一组规则之 步骤包含如下步骤: 定义一组用于成像该光网之照明设定値; 依据该组照明设定値对复数个具有不同间距之线 实施一光学模拟; 确定该等散射棒相对于该复数个线之最佳位置以 便针对该照明设定値最佳化该复数个线之成像;及 记录该等散射棒之该最佳位置。 3.根据申请专利范围第1项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其中该产生该第二组规则之 步骤包含如下步骤: 产生一包含一组选择测试结构及一抗蚀剂之测试 光网; 利用该等照明设定値及一用于成像该光网之成像 系统将该测试光网成像于一基板上; 量测成像于该基板上之该组选择测试结构之临界 尺寸; 依据该组选择测试结构与该组已成像测试结构间 之差异产生一表示该成像系统及该抗蚀剂之印刷 效能之模型;及 利用该模型定义用于将偏置应用于该复数个部件 之该第二组规则。 4.根据申请专利范围第3项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其中依据该模型为复数个不 同部件间隔区间之每一间隔区间定义一偏置需求 。 5.根据申请专利范围第2项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其中为复数个不同部件间隔 区间之每一间隔区间定义一散射棒需求。 6.根据申请专利范围第4项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其中当定义该给定间隔区间 之偏置需求时考虑将一散射棒放置于在一给定间 隔区间内。 7.根据申请专利范围第1项之产生一用于将光学近 似校正技术自动应用于一包含复数个部件之光网 设计之规则集之方法,其进一步包含产生一用于将 线端校正应用于该复数个部件之第三组规则。 8.一种将光学近似校正技术自动应用于一包含复 数个部件之光网设计之方法,该方法包含如下步骤 : 产生一用于将散射棒辅助部件应用于该复数个部 件之第一组规则; 产生一用于将偏置应用于该复数个部件之第二组 规则; 形成一包含该第一组规则及该第二组规则之查询 表;及 使用包含于该查询表内的该第一组规则及该第二 组规则分析该复数个部件之每一部件以决定该第 一组规则或该第二组规则是否适用于一给定部件; 其中,若该第一组规则或该第二组规则适用于该给 定部件,则根据该适用规则修改该给定部件。 9.根据申请专利范围第8项之将光学近似校正技术 自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方法, 其中该产生该第一组规则之步骤包含如下步骤: 定义一组用于成像该光网之照明设定値; 依据该组照明设定値实施复数个具有不同间距之 线之光学模拟; 确定该散射棒相对于该复数个线之最佳位置以便 针对该等照明设定値最佳化该复数个线之成像;及 记录该等散射棒之该最佳位置。 10.根据申请专利范围第8项之将光学近似校正技术 自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方法, 其中该产生该第二组规则之步骤包含如下步骤: 产生一包含一组选择测试结构及一抗蚀剂的测试 光网; 利用该等照明设定値及一用于成像该光网之成像 系统将该测试光网成像于一基板上; 量测成像于该基板上之该组选择测试结构之临界 尺寸; 依据该组选择测试结构与该组已成像选择测试结 构间之差异产生一表示该成像系统及该抗蚀剂之 印刷效能之模型;及 利用该模型定义用于将偏置应用于该复数个部件 之该第二组规则。 11.根据申请专利范围第10项之将光学近似校正技 术自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方 法,其中依据该模型为复数个不同部件间隔区间之 每一间隔区间定义一偏置需求。 12.根据申请专利范围第9项之将光学近似校正技术 自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方法, 其中为复数个不同部件间隔区间之每一间隔区间 定义一散射棒需求。 13.根据申请专利范围第11项之将光学近似校正技 术自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方 法,其中当定义该给定间隔区间之偏置需求时考虑 将一散射棒放置于一给定间隔区间内。 14.根据申请专利范围第8项之将光学近似校正技术 自动应用于一包含复数个部件之光网设计之方法, 其进一步包含产生一用于将线端校正应用于该复 数个部件之第三组规则。 15.一种电脑可读取媒体,储存有一电脑程式用以指 示电脑产生一用于将光学近似校正技术自动应用 于一包含复数个部件之光网设计之规则集,该规则 集之该产生包含如下步骤: 产生一用于在一给定照明设定値下将散射棒辅助 部件应用于该复数个部件之第一组规则; 产生一用于在一给定照明设定値下将偏置应用于 该复数个部件之第二组规则;及 形成一包含该第一组规则及该第二组规则之查询 表。 16.根据申请专利范围第15项之电脑可读取媒体,其 中该产生该第一组规则之步骤包含如下步骤: 定义一组用于成像该光网之照明设定値; 依据该组照明设定値对复数个具有不同间距之线 实施光学模拟; 确定该等散射棒相对于该复数个线之最佳位置以 便针对该照明设定値最佳化该复数个线之成像;及 记录该等散射棒之该最佳位置。 17.根据申请专利范围第15项之电脑可读取媒体,其 中该产生该第二组规则之步骤包含如下步骤: 产生一包含一组选择测试结构及一抗蚀剂之测试 光网; 利用该等照明设定値及一用于成像该光网之成像 系统将该测试光网成像于一基板上; 量测成像于该基板上之该组选择测试结构之临界 尺寸; 依据该组选择测试结构与该组已成像选择测试结 构间之差异产生一表示该成像系统及该抗蚀剂之 印刷效能之模型;及 利用该模型定义用于将偏置应用于该复数个部件 之该第二组规则。 18.根据申请专利范围第17项之电脑可读取媒体,其 中依据该模型为复数个不同部件间隔区间之每一 间隔区间定义一偏置需求。 19.根据申请专利范围第16项之电脑可读取媒体,其 中为复数个不同部件间隔区间之每一间隔区间定 义一散射棒需求。 20.根据申请专利范围第18项之电脑可读取媒体,其 中当定义该给定间隔区间之偏置需求时考虑将一 散射棒放置于一给定间隔区间内。 21.一种元件制作方法,其包含如下步骤: (a)提供一至少部分覆盖有一层辐照敏感材料之基 板; (b)使用一成像系统提供一辐照投影光束; (c)使用一光罩上之图案使该投影光束之剖面具有 一图案; (d)将该图案化之辐照光束投影于辐照敏感材料层 之一目标部分上, 其中,在步骤(c)中,藉由一包含如下步骤之方法形 成该光罩: 产生一用于在一给定照明设定値下将散射棒辅助 部件应用于该复数个部件之第一组规则; 产生一用于在一给定照明设定値下将偏置应用于 该复数个部件之第二组规则; 形成一包含该第一组规则及该第二组规则之查询 表;及 使用包含于该查询表内的该第一组规则及该第二 组规则分析该复数个部件之每一部件以决定该第 一组规则或该第二组规则是否适用于一给定部件; 其中,若该第一组规则或该第二组规则适用于该给 定部件,则根据该适用规则修改该给定部件。 图式简单说明: 图1系一展示根据本发明产生OPC规则集之方法之一 实例性实施例之流程图。 图2a及图2b分别展示一邻近主部件之散射棒之实例 性配置及其相应之空间影像。 图3展示一体现根据本发明之方法产生的一实例性 OPC规则集之查询表。 图4系一展示用于产生一关于线端校正之OPC规则集 之方法之实例性实施例之流程图。 图5系一展示用于根据本发明将一OPC规则集自动应 用于一给定光网设计之实例性方法之流程图。 图6及图7系验证本发明方法之实验结果。 图8展示本发明关于线端校正方法之实验结果。 图9实例性展示适于与本发明之方法结合使用的一 微影投影装置。
地址 荷兰