| 摘要 |
<p>Fotoresist strippere og rensesammensetninger ifølge oppfinnelsen er tilveiebrakt ved ikke-vandige, ikke-korrosive rensesammensetninger som mottar galvanisk korrosjon når den brukes på lagdelte strukturer av forskjellige typer metall som en overflate på en elektronisk innretning. Slike ikke-vandige fotoresiststrippere og rensesammensetninger omfatter: (a) minst et polart organiske løsningsmiddel, (b) minst en di- eller polyamin som har både minst en primær amingruppe og en eller flere sekundære og/eller tertiære amingrupper, og som har formelen R1R2N -[-(C)mR6R7-N-]n-R4R5 der R1, R2, R4, og R5 kan uavhengig velges fra H, OH, hydroksyalkyl og aminoalkylgrupper; R6 og R7 er hver uavhengig H eller alkylgrupper, og m og n er hver uavhengig heltall på 1 eller større, med forbehold at R1, R2, R4, og R5 er valgt ut slik at det er minst en primæramingruppe og minst en sekundær eller tertiær amingruppe i forbindelsen, og (c) minst en korrosjonsinhibitor som er valgt ut fra 8-hydroksyquinolin og isomerer av denne, benzotriazoler, katekol, monosakkarider, og polyhydrinalkoholer valgt ut fra mannitol, sorbitol, arabitol, xylitol, erytritol, alkandioler og cykloalkandioler.</p> |
