PROCEDE DE NANOSTRUCTURATION DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT

摘要

Il s'agit d'un procédé de réalisation d'une nanostructuration périodique sur une des faces d'un substrat (10) présentant un réseau de dislocations périodique, enterré au sein d'une zone cristalline (4) située au voisinage d'un interface (5) entre des faces en matériau cristallin de deux éléments (1, 2) assemblés par collage pour former le substrat (10). Il comprend les étapes suivantes :-formation, au niveau des dislocations (3), d'implants (6) en un matériau autre que celui de la zone cristalline (4);-irradiation avec une onde électromagnétique (11) du substrat (10) pour provoquer une absorption d'énergie électromagnétique localisée au niveau des implants (6), cette absorption conduisant à l'apparition de la nanostructuration (12) périodique sur la face du substrat (10).