| 摘要 |
Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist eine erste optische Anordnung (26, 32) zur Erzeugung eines Lichtbündels auf. Das Licht des Lichtbündels hat wenigstens über einen Teil des Querschnittss des Lichtbündels hinweg unterschiedliche Polarisationszustände und ist räumlich wenigstens teilweise kohärent. Ferner weist das Beleuchtungssystem (12) eine zweite optische Anordnung (36, 38) auf, die zwischen der ersten optischen Anordnung (26, 32) und einer Pupillenebene (42) angeordnet ist. Die zweite optische Anordnung (26, 32) teilt das Lichtbündel auf wenigstens zwei unterschiedliche Orte (P<SUB>x</SUB>, P<SUB>-x</SUB>, P<SUB>y</SUB>, P<SUB>-y</SUB>) in der Pupillenebene (42) auf und überlagert dabei die von der ersten optischen Anordnung erzeugten Polarisationszustände zu Pupillenpolarisationszuständen überlagert, die an den wenigstens zwei Orten (P<SUB>x</SUB>, P<SUB>-x</SUB>, P<SUB>y</SUB>, P<SUB>-y</SUB>) unterschiedlich sind.
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