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发明名称
用于金属移除速率控制之卤化物阴离子
摘要
本发明之化学机械抛光系统包含抛光组件、液体载剂、氧化剂及卤素阴离子。本发明之方法包含利用该抛光系统化学机械抛光一基板。
申请公布号
TW200804548
申请公布日期
2008.01.16
申请号
TW096110172
申请日期
2007.03.23
申请人
卡博特微电子公司
发明人
李守田
分类号
C09G1/02(2006.01);C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01);B24B37/00(2006.01)
主分类号
C09G1/02(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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