量测方法和设备、曝光设备、和制造装置的方法

摘要

本发明系关于一种使用物面侧狭缝来量测目标光学系统的波前像差之方法，该方法包含以下步骤：自该目标光学系统的波前像差移除参考波前误差，该波前像差获自来自第一像面侧狭缝的光与来自第二像面侧的光之间的干涉所形成之干涉图案。该参考波前误差系含于第一物面侧狭缝所产生的物面侧参考波前及第一像面侧狭缝所产生的像面侧参考波前。