| 摘要 |
本发明系一种光阻组成物，其系含有：（A）含有下述一般式（1）、（2）及（3）所示之化合物中之水解性矽烷单体混合物藉由共水解缩合所得之聚矽氧树脂（B）酸产生剂（C）含氮有机化合物及（D）有机溶剂所成，（R1为氟原子、烷基或氟化之烷基，R2为烃基，R3为具有以作为官能基之酸分解性保护基保护之羧基的有机基，R4系与R2相同定义，R5系具有作为官能基之内酯环的有机基，R6系与R2相同定义，X系氢原子、氯原子、溴原子或烷氧基，p为0或1；q为0或1；r为0或1）。本发明之光阻组成物显示与以往之接近位置之碳被氟化之醇作为极性基使用之光阻组成物同等以上的解像性，可解决氧反应性蚀刻时，与有机材料之下层膜之间无法取得蚀刻选择比的问题，适用于ArF曝光之2层光阻法。 |
