| 摘要 |
本发明之曝光方法系在投影光学系统PL之像面侧移动的基板载台PST上的基板固定器PH上保持基板P，使用从液体供给机构10供给之液体1，在投影光学系统PL之像面侧形成浸液区域AR2，而以曝光之光EL经由投影光学系统PL与浸液区域AR2，来曝光基板P。在不进行基板P之曝光的期间中，将浸液区域AR2与基板载台PST相对移动，来洗净基板固定器PH上部，并且将浸液区域AR2与计测载台MST相对移动，来洗净计测载台MST上部。洗净时，形成浸液区域AR2之液体可使用洗净液。以浸液法进行曝光时，可抑制杂质混入液体中，并以高通量执行高解像度之浸液曝光。 |
