发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种具有高闸极耐压、高源极╱汲极耐压,并且具有低导通电阻之高耐压MOS电晶体。在该MOS电晶体中,系于磊晶矽层2上隔着LOCOS膜4形成闸极电极5。于LOCOS膜4的左侧形成P型的第一漂移层6,并夹着闸极电极5而于LOCOS膜4右侧的磊晶矽层2表面配置与第一漂移层6相对的P+型之源极层7。此外,形成有P型之第二漂移层9,该第二漂移层9系从第一漂移层6的下方朝LOCOS膜4左侧下方延伸,并扩散于比第一漂移层6还深的磊晶矽层2中。于LOSOC膜4左端下方的第二漂移层9下方部形成有凹部R。
申请公布号 TW200805653 申请公布日期 2008.01.16
申请号 TW096103838 申请日期 2007.02.02
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 田中秀治;菊地修一;中谷清史
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本