EUV微影术用之反射性空白遮光罩及用于彼之具有功能性薄膜的基板

摘要

本发明系提供一种制止在EUV曝光期间反射率下降之EUV空白遮光罩，以及用于生产该等EUV空白遮光罩之具有功能性薄膜的基板。具有用于EUV微影术之反射层的基板包含基板及在该基板上依序形成之用于反射EUV光之反射层与用于保护该反射层之保护层，其中保护层包括钌（Ru）及至少一种选自硼（B）及锆（Zr）之元素;以及在保护层中，Ru含量系从70原子％至95原子％，而B与Zr之总含量系从5原子％至30原子％。