具有改良之终点侦测之用于化学机械研磨二氧化矽及氮化矽之组成物

摘要

本发明系提供一种用在半导体基材上研磨二氧化矽及氮化矽的组成物之制造方法。该方法包括使羧酸聚合物进行离子交换以降低其氨含量以及将经离子交换之羧酸聚合物0.01至5重量百分比与0.001至1重量百分比的四级铵化合物、0.001至1重量百分比的邻苯二甲酸及其盐、0.01至5重量百分比的研磨料及余量水混合。