| 摘要 |
本发明提供一种用于一电浆处理室的错误侦测之方法。该方法包含监视一电浆室内的电浆参数并分析所获得的资讯。此类分析能在晶圆处理之过程期间侦测一电浆处理反应器中的故障并诊断故障模式。该方法包括测量与时间成函数关系的该等电浆参数以及分析所获得的资料。该资料可采用任何方式加以观察、特征化、与参考资料比较、数位化、处理或分析以揭露一特定错误。可采用诸如一探针之一侦测器进行监视，该探针系较佳维持在该电浆室内实质上与该电浆室内的一表面共面，而且直接测量净离子通量及其他电浆参数。该侦测器系较佳固定在该反应器内诸如一研磨莲蓬头电极之一研磨表面上，而且可以系一平面离子通量探针（PIF）型或一非电容型。可加以侦测的电浆室错误包含该处理室中的处理副产品之集结、氦泄漏、匹配重新调谐事件、不稳定速率以及电浆密闭之丧失。若该侦测器系一探针，则该探针可加以嵌入在一电浆处理室之一部分中而且可以包括一或多个气体馈送孔。 |
