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发明名称
基板处理装置
摘要
本发明之基板处理装置系用以对基板施行使用处理液所进行之处理者。该基板处理装置包含:一侧平板,其系隔着间隔而与上述基板之一面对向配置,于与上述一面对向之面,形成有多个吐出口及吸引口;一侧处理液供给机构,其系用以对上述一侧平板之上述吐出口供给处理液;以及一侧吸引机构,其系用以吸引上述一侧平板之上述吸引口内部。
申请公布号
TW200805480
申请公布日期
2008.01.16
申请号
TW096104389
申请日期
2007.02.07
申请人
大斯克琳制造股份有限公司
发明人
广江敏朗;内田博章
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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