基板处理方法

摘要

本发明旨在提供一种基板处理方法，在溶解光阻图案而形成所欲的图案之回流处理中，可避免产生断线等的瑕疪，并且对所欲遮蔽的区域，有效率地形成具备充分膜厚均等性的图案。本发明之基板处理方法，系进行下列两个步骤：从具有厚膜部与薄膜部的光阻206之图案，藉由再显影处理而去除该薄膜部的步骤；以及藉由该再显影处理而溶解于该底层膜205上所形成的光阻206，并使其通过底层膜205的边缘部所形成之梯级部205a，遮蔽特定区域Tg的步骤；在遮蔽该特定区域Tg的步骤中，于该底层膜205上以第一溶解速度模式溶解该光阻206，被溶解的光阻于到达该梯级部205a之后，再以比该第一溶解速度模式溶解速度更慢的第二溶解速度模式，溶解该光阻206。