隔离结构的制造方法

摘要

一种隔离结构的制造方法，此方法为提供基底，基底包括图案稀疏区与图案密集区，且基底上已形成有一层硬罩幕层，而硬罩幕层与基底中已形成有多个沟渠。之后，于基底上形成一层介电层，填满这些沟渠且覆盖住基底，介电层于图案稀疏区上形成有凹陷。接着，于基底上形成一层罩幕层，填满凹陷。以罩幕层为罩幕移除部分介电层后，移除罩幕层。继而以硬罩幕层为终止层，移除部分介电层，以形成多个隔离结构。