发明名称 双折射膜及其制造方法、以及其用途
摘要 本发明之双折射膜系折射率椭球满足nz>nx=ny之关系,且包含含有一COOM基(在此,M系表示抗衡离子)的至少一种多环化合物者。该多环化合物,举例而言,包括以通式(I)所表示之并[1,2-b]衍生物。本发明之双折射膜,系藉由包含有前述多环化合物,而使得厚度方向之双折射率高,且可薄型地形成。
申请公布号 TW200804935 申请公布日期 2008.01.16
申请号 TW096118141 申请日期 2007.05.22
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 宫崎顺三;松田祥一;长塚辰树
分类号 G02F1/13363(2006.01) 主分类号 G02F1/13363(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本