发明名称 用于基质覆料淋水机中的自动均匀淋水装置
摘要 本发明公开了一种用于基质覆料淋水机中的自动均匀淋水装置。它具有机架,在机架上设有淋水部件、红外光电感应器、覆料部件、输送带总成,输送带总成由电机带动,穴盘由输送带总成传动,淋水部件具有箱体,箱体内设有水管,水管上设有淋滴头、电磁阀,装置由控制器控制。本发明采用了红外光传感器和延时继电器的控制方法,当穴盘经过光电传感器时,发出信号,同过延时继电器,控制在穴盘到达淋水位置时淋水开始,工作延时一定时间,完成对整个穴盘的淋水,延时继电器的延时时间和光电传感器的位置可根据参数的变化进行方便的调整。淋滴头采用一种多层淋水喷头,其结构为3-5层内空圆柱形叠加结构,出水口的直径为细长小孔。
申请公布号 CN101103697A 申请公布日期 2008.01.16
申请号 CN200710069595.6 申请日期 2007.08.03
申请人 浙江大学 发明人 王俊;叶盛;王永维;蒋焕煜
分类号 A01G31/02(2006.01);B05B1/06(2006.01) 主分类号 A01G31/02(2006.01)
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 张法高
主权项 1.一种用于基质覆料淋水机中的自动均匀淋水装置,其特征在于具有机架(1),在机架上设有淋水部件(2)、红外光电感应器(3)、覆料部件(6)、输送带总成(7),输送带总成(7)由电机(8)带动,穴盘(4)由输送带总成(7)传动,淋水部件(2)具有箱体(13),箱体(13)内设有水管(10),水管(10)上设有淋滴头(9)、电磁阀(12),装置由控制器(5)控制。
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