发明名称 防反射薄膜
摘要 本发明涉及一种防反射薄膜,其在基材薄膜的至少一面上,依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和含有近红外线吸收剂、厚度为2~20μm的涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50~200nm的低折射率层,且至少在波长850~1000nm的全部区域中透过率为30%以下。上述薄膜具有近红外线吸收性能和防反射性能,且耐擦伤性优异,尤其是可以适合用作PDP用,且层结构简单,可以通过湿式处理法低成本地制造。
申请公布号 CN101107543A 申请公布日期 2008.01.16
申请号 CN200680002782.6 申请日期 2006.01.18
申请人 琳得科株式会社 发明人 所司悟;小泉伸
分类号 G02B1/11(2006.01);G02B5/22(2006.01);B32B27/18(2006.01);G09F9/00(2006.01) 主分类号 G02B1/11(2006.01)
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1.一种防反射薄膜,其特征在于在基材薄膜的一面上,依次层叠(A)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂和近红外线吸收剂的厚度为2~20μm的硬涂层、和(B)包含通过活性能量线照射形成的固化树脂、折射率为1.43以下、厚度为50~200nm的低折射率层,且至少在波长850~1000nm的全部区域中透过率为30%以下。
地址 日本国东京都