发明名称 玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法
摘要 本发明涉及一种玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法,采用表面经过羟基化处理的玻璃基片作为基底材料,将基片浸入氨基硅烷溶液中,在基片表面组装氨基硅烷薄膜,然后将表面组装了氨基硅烷的基片置入含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中,静置一段时间后,薄膜表面将组装上磷酸基团,最后将表面附有磷酸基硅烷薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素、硝酸配制的稀土自组装溶液中,获得磷酸基硅烷-稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单,在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩、耐磨和抗粘着作用。
申请公布号 CN100361916C 申请公布日期 2008.01.16
申请号 CN200610024978.7 申请日期 2006.03.23
申请人 上海交通大学 发明人 程先华;顾勤林;白涛;蒋喆
分类号 C03C17/42(2006.01);C03C17/30(2006.01) 主分类号 C03C17/42(2006.01)
代理机构 上海交达专利事务所 代理人 毛翠莹
主权项 1.一种玻璃基片表面磷酸基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法,其特征在于将玻璃基片置于体积比98%浓硫酸∶30%H2O2=1∶1的溶液中于室温下处理1小时,再用去离子水超声清洗20分钟,放在一个防尘装置内在烘箱中干燥;将处理后的玻璃基片浸入配制好的氨基硅烷溶液中,静置12小时,取出后分别用无水甲醇、去离子水冲洗,然后用氮气吹干置于含有三氯氧化磷和2,3,5-三甲基吡啶的氰化甲烷溶液中反应20分钟,取出后用去离子水冲洗,得到表面组装上了磷酸基团的薄膜基片;再将表面附有磷酸基团的薄膜基片置入配制好的稀土自组装溶液中,在80℃下进行组装12小时,即获得磷酸基硅烷-稀土纳米薄膜;其中,所述氨基硅烷溶液中氨基硅烷的的体积百分比为0.5~2%,溶剂为无水甲醇;所述氰化甲烷溶液的组分体积百分比为:三氯氧化磷15~25%,2,3,5-三甲基吡啶15~25%,氰化甲烷50~70%;所述稀土自组装溶液的组分重量百分比为:乙醇60~80%,稀土化合物4.5~7%,乙二胺四乙酸1~4%,氯化铵2~5%,尿素12~25%,硝酸0.5~1.5%。
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