发明名称 逸出功的测量方法
摘要 本发明涉及一种逸出功的测量方法,其包括以下步骤:提供一个碳纳米管场发射电子源作为阴极和一个与该阴极相隔预定距离设置的阳极;在真空环境下施加电压于该场发射电子源并测量其场发射电流-电压曲线;在该碳纳米管场发射电子源的碳纳米管表面形成一层待测逸出功的场发射材料;在与上述距离相同的条件下测量形成有待测场发射材料层的碳纳米管场发射电子源的电流-电压曲线;根据福勒-诺德汉方程,依据测得的电流-电压曲线图可得到场发射电子源发射电子的福勒-诺德汉曲线示意图,并进一步得到待测场发射材料的逸出功。
申请公布号 CN101105488A 申请公布日期 2008.01.16
申请号 CN200610061641.3 申请日期 2006.07.14
申请人 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 发明人 魏巍;姜开利;范守善
分类号 G01N33/00(2006.01);G01N23/00(2006.01) 主分类号 G01N33/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种逸出功的测量方法,其包括以下步骤:提供一个碳纳米管场发射电子源作为阴极和一个与该阴极相隔预定距离设置的阳极;在真空环境下施加电压于该场发射电子源并测量其场发射电流一电压曲线;在该碳纳米管场发射电子源的碳纳米管表面形成一层待测逸出功的场发射材料;在与上述距离相同的条件下测量形成有待测场发射材料层的碳纳米管场发射电子源的电流-电压曲线;根据福勒-诺德汉方程,依据测得的电流-电压曲线图可得到场发射电子源发射电子的福勒-诺德汉曲线示意图,并进一步得到待测场发射材料的逸出功。
地址 100084北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心310号